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        平面刻線衍射光柵(50x50x9.5mm)

        簡要描述:平面刻線衍射光柵(50x50x9.5mm)
        制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進行調整,可能需要花費幾天進行設置并在實際刻劃之前進行測試。刻劃機必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預定量對基底進行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。

        • 產品品牌:其他品牌
        • 廠商性質:代理商
        • 更新時間:2023-01-04
        • 訪  問  量:534

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        組件類別其他應用領域醫療衛生,環保,化工,電子,綜合

        平面刻線衍射光柵(50x50x9.5mm)


        平面刻線衍射光柵(50x50x9.5mm)

        制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進行調整,可能需要花費幾天進行設置并在實際刻劃之前進行測試。刻劃機必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預定量對基底進行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。


        75l/mm @10.6μm


        100l/mm @10.6μm


        150l/mm @10.6μm


        300l/mm @300nm


        300l/mm @500nm


        300l/mm @1000nm


        300l/mm @3.5μm


        450l/mm @3.1μm


        600l/mm @250nm


        600l/mm @300nm


        600l/mm @400nm


        600l/mm @500nm


        600l/mm @750nm


        600l/mm @1000nm


        600l/mm @1250nm


        600l/mm @1600nm


        1200l/mm @250nm


        1200l/mm @300nm


        1200l/mm @400nm


        1200l/mm @500nm


        1200l/mm @750nm


        1200l/mm @1000nm


        1800l/mm @500nm


        特征

        材料:

        浮法玻璃

        表面光潔度:

        60-400

        尺寸誤cha:

        ±0.5 mm

        厚度公cha:

        ±0.5mm

        效率:

        60%~80% @閃耀波長

        有效孔徑:

        90%

        損傷閾值:

        350mJ/cm2@200ns脈沖激光

        40W/cm2(CW)連續激光



        產品編號

        產品名稱

        尺寸

        刻線數

        閃耀波長

        閃耀角

        378521

        刻線式光柵 50x50x9.5mm 300Lines/mm 浮法玻璃

        50x50x9.5mm

        300Lines/mm

        300nm

        2°34'

        378522

        刻線式光柵 50x50x9.5mm 300Lines/mm 浮法玻璃

        50x50x9.5mm

        300Lines/mm

        500nm

        4°18

        378523

        刻線式光柵 50x50x9.5mm 300Lines/mm 浮法玻璃

        50x50x9.5mm

        300Lines/mm

        1000nm

        8°36'

        378531

        刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

        50x50x9.5mm

        600Lines/mm

        300nm

        5°9'

        378532

        刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

        50x50x9.5mm

        600Lines/mm

        400nm

        6°53'

        378543

        刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

        50x50x9.5mm

        600Lines/mm

        500nm

        8°37'

        378544

        刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

        50x50x9.5mm

        600Lines/mm

        750nm

        13°0'

        378545

        刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

        50x50x9.5mm

        600Lines/mm

        1000nm

        17°27'

        378546

        刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

        50x50x9.5mm

        600Lines/mm

        1250nm

        22°1'

        378547

        刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

        50x50x9.5mm

        600Lines/mm

        1600nm

        28°41'

        378554

        刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

        50x50x9.5mm

        1200Lines/mm

        250nm

        8°37

        378555

        刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

        50x50x9.5mm

        1200Lines/mm

        300nm

        10°22'

        378556

        刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

        50x50x9.5mm

        1200Lines/mm

        400nm

        13°53'

        378565

        刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

        50x50x9.5mm

        1200Lines/mm

        500nm

        17°27'

        378566

        刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

        50x50x9.5mm

        1200Lines/mm

        750nm

        26°44'

        378567

        刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

        50x50x9.5mm

        1200Lines/mm

        1000nm

        36°52'

        378568

        刻線式光柵 50x50x9.5mm 1800Lines/mm 浮法玻璃

        50x50x9.5mm

        1800Lines/mm

        500nm

        26°44'



        制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進行調整,可能需要花費幾天進行設置并在實際刻劃之前進行測試。刻劃機必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預定量對基底進行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進行調整,可能需要花費幾天進行設置并在實際刻劃之前進行測試。刻劃機必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預定量對基底進行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進行調整,可能需要花費幾天進行設置并在實際刻劃之前進行測試。刻劃機必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預定量對基底進行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。

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